上海金属真空计设备公司 上海辰仪测量技术供应

电容薄膜真空计：属弹性元件真空计，其结构和电路原理是一弹性薄膜将规管真空室分为两个小室，即参考压强室和测量室。测量低压强（P<100帕）时，参考室抽至高真空，其压强近似为零。当测量室压强不同时，薄膜变形的程度也不同。在测量室中有一固定电极，它与薄膜形成一个电容器。薄膜变形时电容值相应改变，通过电容电桥可测量电容的变化从而确定相应压强值。电容薄膜真空计可直接测量气体或蒸气的压强，测量值与气体种类无关、结构牢固、可经受烘烤，如对不同压强范围采用不同规头，可得到较高精度。它可用于高纯气体监测、低真空精密测量和压强控制，也可用作低真空测量的副标准。如果怀疑电容真空计出现故障，应及时进行检修或更换。上海金属真空计设备公司

电容式薄膜真空计（MEMS规）通过金属薄膜在压力下的形变改变电容值，量程覆盖10⁵~10⁻⁴ Pa，精度±0.25%。温度系数低（<0.01%/℃），适合宽温域应用。硅微加工技术制造的MEMS规体积*硬币大小，响应时间<1 ms。需避免颗粒物损坏薄膜，且腐蚀性气体会侵蚀电极。**型号内置自校准功能，长期稳定性优异。6. 麦克劳真空计（**压缩式）***真空计，通过压缩已知体积气体至毛细管，测量液柱高度差计算压力。量程10~10⁻⁴ Pa，精度±1%，但***静态测量。**蒸汽毒性限制其使用，现多被石英振子规替代。其原理仍作为真空计量标准，用于校准其他真空计。改进型油压缩规使用扩散泵油替代**，安全性提升。上海金属电容薄膜真空计供应商真空计使用过程中常见的问题有哪些？

金属薄膜真空计性能特点高灵敏度：金属薄膜真空计通常具有较高的灵敏度，能够准确测量微小的压力变化。宽测量范围：虽然具体范围取决于金属薄膜的材质和厚度，但金属薄膜真空计通常具有较宽的测量范围，适用于从低真空到高真空的不同环境。稳定性好：在适当的维护下，金属薄膜真空计具有良好的稳定性，能够长时间保持测量精度。抗污染能力强：相对于某些其他类型的真空计，金属薄膜真空计对污染的敏感性较低，能够在一定程度上抵抗污染物的干扰。

真空计的基本分类真空计按测量原理分为***真空计（直接测量压力）和相对真空计（需校准）。主要类型包括机械式（如波登管）、热传导式（皮拉尼计）、电离式（热阴极/冷阴极）、电容式（MEMS）等。选择时需考虑量程（如皮拉尼计适用于1Pa~10⁻⁴Pa）、精度（±1%~±15%）、气体类型兼容性（惰性气体需特殊校准）及环境振动影响。国际标准ISO3567定义了真空计的性能测试方法。皮拉尼计（热传导真空计）基于气体热传导率随压力变化的原理，通过加热电阻丝（通常为钨或铂）测量其温度变化。低压下气体分子少，热导率降低，电阻丝温度升高导致电阻变化。量程通常为1000Pa~10⁻¹Pa，精度±10%。需注意气体种类影响（氢气热导率高，读数偏低），且长期使用可能因污染导致零点漂移。现代皮拉尼计集成温度补偿算法，稳定性可达±1%/年。3.热阴极电离真空计（Bay电容真空计的校准通常需要使用已知真空度的标准真空源或真空计进行比对。

真空泵的工作原理真空泵通过机械或物理方式移除气体分子。旋片泵通过旋转叶片压缩气体排出；涡轮分子泵利用高速叶片撞击气体分子；低温泵则通过冷却表面吸附气体。干泵无油污染，适合洁净环境；扩散泵通过油蒸气喷射带走气体，需配合冷阱使用。选择泵需考虑极限真空、抽速和气体类型。4. 真空在半导体制造中的应用芯片制造需10⁻⁷ Pa超高真空环境。光刻机通过真空避免空气散射紫外线；离子注入在真空中加速掺杂原子；分子束外延（MBE）逐层生长晶体。真空减少杂质污染，确保纳米级精度。一台EUV光刻机包含数十个真空腔室，真空稳定性直接影响5nm以下制程良率。真空计如何选型与使用？上海高精度真空计设备供应商

真空计按计量原理如何分类？上海金属真空计设备公司

辰仪金属电容真空计是完全对标MKS的金属电容真空计而开发的一款金属膜片真空计，已实现全系列部件国产化，产品测量精度接近MKS金属电容真空计。辰仪金属电容真空计已中芯国际等国内FAB厂上机测试，填补了MKS对国内断供的影响。辰仪金属电容真空计是完全对标MKS的金属电容真空计而开发的一款金属膜片真空计，已实现全系列部件国产化，产品测量精度接近MKS金属电容真空计。辰仪金属电容真空计已中芯国际等国内FAB厂上机测试，填补了MKS对国内断供的影响。上海金属真空计设备公司